Ceramic Substraat PVD-coatingmachine is een belangrijke apparatuur voor een zeer nauwkeurige dunne filmafzetting van keramische materialen (zoals aluminiumoxide, aluminiumnitride, siliciumnitride, zirkoniumoxide, enz.).
Het maakt gebruik van fysieke dampafzettingstechnologie onder vacuümomgeving om verschillende functionele films te vormen op het oppervlak van keramische substraten.
Ceramic substrate PVD coating machines have become an indispensable core equipment for realizing surface functionalization of ceramic substrates (conductive, thermal, solderable, bonding, protective, optical, etc.) in high-end electronics, optoelectronics, semiconductors, power electronics and other fields due to their ultra-high vacuum environment, precise process control, multiple coating technology options and excellent thin film properties (Hoge zuiverheid, dichtheid, sterke hechting, hoge precisie).
Toepassingen:
Elektronische verpakking
Metallisatie op LED -chiphouders, stroommodule -substraten, Microwave RF -apparaatbehuizingen/substraten en halfgeleider keramische pakketten.
Opto -elektronica
Metallisatie van keramische substraten/koellichamen voor LED's, lasers en fotodetectoren.
Halfgeleiders
Interconnecties op MEMS -apparaatstructurele lagen, sensorelektroden en keramische isolatielagen.
Power Electronics
Oppervlakte -metallisatie (Cu, AL) en barrière/beschermende lagen van keramische substraten (DCB, AMB) voor vermogensapparaten zoals IGBT en MOSFET.
Dunne filmcircuits
Dunne filmweerstanden, condensatoren, inductoren en transmissielijnen op keramische substraten voor hybride geïntegreerde circuits en microgolfmillimetergolfcircuits.
Sensoren
Functionele elektroden en kabels voor verschillende keramische substraatsensoren (druk, temperatuur, gas).
Ruimtevaart en verdediging
Hoge betrouwbaarheid, extreme omgevingsbestendige elektronische componenten en keramische onderdelen.
Populaire tags: Keramische PVD -coatingmachine, China keramische PVD -coatingmachines, leveranciers, fabriek
