Dunne-filmmaterialen worden op het oppervlak van substraatmaterialen (zoals displayglas en optisch glas) gegroeid en zijn doorgaans samengesteld uit coatingmaterialen zoals metalen, niet-metalen, legeringen of verbindingen. Ze beschikken over meerdere eigenschappen, waaronder anti-reflectie, absorptie, afsnijding, spectrale dispersie, reflectie en filtering, interferentie, bescherming, waterdichtheid en vlekbestendigheid, antistatische eigenschappen, geleidbaarheid, magnetische permeabiliteit, isolatie, slijtvastheid, hoge temperatuurbestendigheid, corrosiebestendigheid, oxidatieweerstand, stralingsbescherming, decoratie en composietfuncties. Ze kunnen de productkwaliteit aanzienlijk verbeteren, milieubescherming en energiebesparing bereiken, de levensduur van het product verlengen en de oorspronkelijke prestaties verbeteren. Momenteel omvatten de reguliere technologieën voor de voorbereiding van dunne-filmmateriaal hoofdzakelijk twee belangrijke systemen:
fysieke dampafzetting (PVD)en chemische dampdepositie (CVD).
1. Sputtercoatingtechnologie Deze technologie genereert ionen met behulp van een ionenbron, versnelt en convergeert ze in een vacuüm om een hoge- ionenbundel te vormen die een vast oppervlak bombardeert. De ionen wisselen kinetische energie uit met de atomen op het vaste oppervlak, waardoor de vaste atomen loskomen van het substraat en zich op het substraatoppervlak afzetten. De gebombardeerde vaste stof, die wordt gebruikt als grondstof voor het afzetten van dunne films, wordt een sputterdoel genoemd. Het doel bestaat hoofdzakelijk uit een doelplano en een achterplaat (achterbuis): van het doelplano, als de kerncomponent die wordt gebombardeerd door de ionenbundel, worden de oppervlakteatomen gesputterd en afgezet in een film; de achterplaat biedt fixatie en ondersteuning en beschikt ook over een uitstekende elektrische en thermische geleidbaarheid. Deze technologie biedt voordelen zoals een goede filmuniformiteit, regelbare dikte en uitstekende herhaalbaarheid. De geprepareerde films hebben een hoge zuiverheid, sterke dichtheid en uitstekende hechting, waardoor het een van de belangrijkste technologieën is voor de voorbereiding van dunne films en de voortdurende groei in de vraag naar sputterdoelen met hoge-waarde-toevoeging aanjaagt.
2. Vacuümverdampingscoatingtechnologie Deze technologie omvat het verwarmen van een materiaal in een vacuümomgeving met behulp van een verdampingsbron om het te verdampen, dat zich vervolgens op een substraatoppervlak afzet om een dunne film te vormen. Het verdampte materiaal wordt het verdampingsmateriaal genoemd en het systeem bestaat uit drie hoofdmodules: een vacuümkamer, een verdampingsbron en een substraatsamenstel. De verdampingsbron moet zowel het verdampingsmateriaal vasthouden als voldoende warmte leveren om de vereiste dampdruk te bereiken. Deze technologie wordt gekenmerkt door gebruiksgemak en snelle filmvorming, en is vooral geschikt voor het coaten van kleine- substraatmaterialen.
Deze twee typen PVD-technologieën vormen samen de technologische basis voor moderne functionele dunnefilmpreparatie. Door de diepe integratie van materiaalkunde en vacuümtechniek stimuleren ze voortdurend technologische innovatie op- geavanceerde gebieden zoals opto-elektronica, nieuwe energie en halfgeleiders.
